Semi Line

Unsere Semi Line ist eine Anlage zur Temperung von Substraten mittels Flash Lamp Annealing (FLA) oder Infrarot-Heizung unter Vakuum. Dabei können Wafer bis zu 4“ (100mm) Durchmesser oder auch kleine rechteckige Substrate eingesetzt werden.  Der Lampenkopf lässt sich anheben und öffnet damit den Zugang zum Substrathalter.

Eine Prozessgaszuführung mit mehreren Linien ermöglicht Prozesse unter verschiedenen Gasatmosphären. Integrierte Messsysteme erfassen die Substrattemperatur berührend sowie berührungslos.

Im kompakten Anlagengestell befindet sich unter der Vakuumkammer die Pumpentechnik sowie Gas- und Kühlwasserverteilung. Die Schaltschränke beinhalten die Steuerungstechnik sowie die Leistungsversorgung für die Blitzlampen.

-          Anlage für Temperung von Wafern bis zu 4“ (100mm) Durchmesser im Vakuum

-          Aluminium-Vakuumkammer in kompaktem Gestell

-          Vakuum-Enddruck 1x10^-6 mbar

-          Flash Lamp Annealing (FLA) und IR-Heizprozesse kombinierbar

-          Maximaltemperatur auf Substrat 850°C, Messung berührend und berührungslos möglich

-          Integrierte Prozessgaszuführung über Mass Flow Controller (MFC)

-          Bedienung über PC